Choice of metadata IPR SMART
Page 1, Results: 6
Report on unfulfilled requests: 0
1.
Подробнее
Методы исследования структуры твердых тел : учебное пособие / Ожерельев В. В. - Воронеж : Воронежский государственный технический университет, ЭБС АСВ, 2021. - 108 с. - ISBN 978-5-7731-0987-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.371
Кл.слова (ненормированные):
исследование -- микроскопия -- рентгеновская дифрактометрия -- спектроскопия -- структура -- твердое тело -- электронография
Аннотация: В учебном пособии рассмотрены методы исследования структуры твердых тел: рентгеновская дифрактометрия, электронография, атомно-силовая микроскопия, оже-электронная спектроскопия. Приводится описание физических основ методов, используемого оборудования и методик анализа данных. Издание предназначено для студентов направлений 28.03.01 «Нанотехнологии и микросистемная техника» и 16.03.01 «Техническая физика» для изучения дисциплин «Методы анализа и контроля наноструктурированных материалов и систем» и «Структурные методы исследований».
Доп.точки доступа:
Ожерельев, В. В.
Костюченко, А. В.
Канныкин, С. В.
Донцов, А. И.
Методы исследования структуры твердых тел : учебное пособие / Ожерельев В. В. - Воронеж : Воронежский государственный технический университет, ЭБС АСВ, 2021. - 108 с. - ISBN 978-5-7731-0987-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
исследование -- микроскопия -- рентгеновская дифрактометрия -- спектроскопия -- структура -- твердое тело -- электронография
Аннотация: В учебном пособии рассмотрены методы исследования структуры твердых тел: рентгеновская дифрактометрия, электронография, атомно-силовая микроскопия, оже-электронная спектроскопия. Приводится описание физических основ методов, используемого оборудования и методик анализа данных. Издание предназначено для студентов направлений 28.03.01 «Нанотехнологии и микросистемная техника» и 16.03.01 «Техническая физика» для изучения дисциплин «Методы анализа и контроля наноструктурированных материалов и систем» и «Структурные методы исследований».
Доп.точки доступа:
Ожерельев, В. В.
Костюченко, А. В.
Канныкин, С. В.
Донцов, А. И.
2.
Подробнее
Берлин, Е. В.
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения : учебное пособие / Берлин Е. В. - Москва : Техносфера, 2018. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-519-0 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.333
Кл.слова (ненормированные):
высокоплотная плазма -- индуктивные источники -- ионный ток -- плотность плазмы -- электрод
Аннотация: Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10¹¹-10¹² см‾³), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10‾²2÷10‾¹ Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого — систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Доп.точки доступа:
Григорьев, В. Ю.
Сейдман, Л. А.
Берлин, Е. В.
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения : учебное пособие / Берлин Е. В. - Москва : Техносфера, 2018. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-519-0 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
высокоплотная плазма -- индуктивные источники -- ионный ток -- плотность плазмы -- электрод
Аннотация: Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10¹¹-10¹² см‾³), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10‾²2÷10‾¹ Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого — систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Доп.точки доступа:
Григорьев, В. Ю.
Сейдман, Л. А.
3.
Подробнее
Луценко, Ю. Ю.
Электродинамика высокочастотных разрядов емкостного типа : учебное пособие / Луценко Ю. Ю. - Томск : Томский политехнический университет, 2018. - 143 с. - Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.313
Кл.слова (ненормированные):
высокочастотный разряд -- электрический ток -- электродинамика -- электродинамическая модель -- электромагнитная волна
Аннотация: В пособии изложены особенности электродинамики высокочастотных разрядов емкостного типа, горящих при атмосферном давлении. Рассмотрена новая электродинамическая модель разряда, учитывающая отражение электромагнитной волны в конце канала разряда. Приведены экспериментальные данные по нелинейным электродинамическим эффектам в плазме разряда. Предназначено для студентов, обучающихся по направлению 14.03.02 «Ядерная физика и технология».
Луценко, Ю. Ю.
Электродинамика высокочастотных разрядов емкостного типа : учебное пособие / Луценко Ю. Ю. - Томск : Томский политехнический университет, 2018. - 143 с. - Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
высокочастотный разряд -- электрический ток -- электродинамика -- электродинамическая модель -- электромагнитная волна
Аннотация: В пособии изложены особенности электродинамики высокочастотных разрядов емкостного типа, горящих при атмосферном давлении. Рассмотрена новая электродинамическая модель разряда, учитывающая отражение электромагнитной волны в конце канала разряда. Приведены экспериментальные данные по нелинейным электродинамическим эффектам в плазме разряда. Предназначено для студентов, обучающихся по направлению 14.03.02 «Ядерная физика и технология».
4.
Подробнее
Вознесенский, Э. Ф.
Методы структурных исследований материалов. Методы микроскопии : учебное пособие / Вознесенский Э. Ф. - Казань : Казанский национальный исследовательский технологический университет, 2014. - 184 с. - ISBN 978-5-7882-1545-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.33я7
Кл.слова (ненормированные):
исследование материала -- метод исследования -- метод микроскопии -- рентгеновская микроскопия -- структурное исследование -- томография
Аннотация: Рассмотрены основные методы исследования структуры материалов, параметры микроструктуры и способы ее визуализации. Особое внимание уделено методам микроскопии, применяемым в материаловедении, таким как оптическая, электронная и зондовая. Приведены сведения о дополнительных и специальных микроскопических методах. Предназначено для студентов всех форм обучения по направлениям подготовки 152200.62 «Наноинженерия», 150100.62 «Материаловедение и технология материалов» (профиль «Материаловедение и технология наноматериалов»), а также может быть полезно для научных работников, преподавателей и аспирантов вузов. Подготовлено на кафедре плазмохимических и нанотехнологий высокомолекулярных материалов.
Доп.точки доступа:
Шарифуллин, Ф. С.
Абдуллин, И. Ш.
Вознесенский, Э. Ф.
Методы структурных исследований материалов. Методы микроскопии : учебное пособие / Вознесенский Э. Ф. - Казань : Казанский национальный исследовательский технологический университет, 2014. - 184 с. - ISBN 978-5-7882-1545-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
исследование материала -- метод исследования -- метод микроскопии -- рентгеновская микроскопия -- структурное исследование -- томография
Аннотация: Рассмотрены основные методы исследования структуры материалов, параметры микроструктуры и способы ее визуализации. Особое внимание уделено методам микроскопии, применяемым в материаловедении, таким как оптическая, электронная и зондовая. Приведены сведения о дополнительных и специальных микроскопических методах. Предназначено для студентов всех форм обучения по направлениям подготовки 152200.62 «Наноинженерия», 150100.62 «Материаловедение и технология материалов» (профиль «Материаловедение и технология наноматериалов»), а также может быть полезно для научных работников, преподавателей и аспирантов вузов. Подготовлено на кафедре плазмохимических и нанотехнологий высокомолекулярных материалов.
Доп.точки доступа:
Шарифуллин, Ф. С.
Абдуллин, И. Ш.
5.
Подробнее
Тренькин, А. А.
Микроструктура импульсных разрядов в воздухе : монография / Тренькин А. А. - Саров : Российский федеральный ядерный центр – ВНИИЭФ, 2022. - 235 с. - ISBN 978-5-9515-0518-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.333
Кл.слова (ненормированные):
высоковольтный разряд -- газоразрядный процесс -- импульсный разряд -- физическая модель
Аннотация: Представлены результаты исследований высоковольтных разрядов наносекундного и микросекундного диапазонов длительности в воздухе атмосферного давления: бесстримерного, искрового, диффузного и барьерного. Основное внимание сосредоточено на изучении пространственной структуры разных типов разрядов, при этом связующей нитью является наличие микроструктуры, когда разряд реализуется в виде совокупности большого количества каналов (филаментов) микронного диаметра. Вместе с тем, взаимоувязанным в рассмотрении оказывается широкий круг газоразрядных процессов, включающих плазменные, газодинамические, радиационные. Изложены экспериментальные данные и описаны физические модели, позволяющие объяснить основные наблюдаемые явления. Проведены аналогии с процессами формирования упорядоченных структур различной физической природы. Книга ориентирована на научно-технических работников в области физики газового разряда и импульсной электрофизики, а также студентов и аспирантов соответствующих специальностей.
Тренькин, А. А.
Микроструктура импульсных разрядов в воздухе : монография / Тренькин А. А. - Саров : Российский федеральный ядерный центр – ВНИИЭФ, 2022. - 235 с. - ISBN 978-5-9515-0518-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
высоковольтный разряд -- газоразрядный процесс -- импульсный разряд -- физическая модель
Аннотация: Представлены результаты исследований высоковольтных разрядов наносекундного и микросекундного диапазонов длительности в воздухе атмосферного давления: бесстримерного, искрового, диффузного и барьерного. Основное внимание сосредоточено на изучении пространственной структуры разных типов разрядов, при этом связующей нитью является наличие микроструктуры, когда разряд реализуется в виде совокупности большого количества каналов (филаментов) микронного диаметра. Вместе с тем, взаимоувязанным в рассмотрении оказывается широкий круг газоразрядных процессов, включающих плазменные, газодинамические, радиационные. Изложены экспериментальные данные и описаны физические модели, позволяющие объяснить основные наблюдаемые явления. Проведены аналогии с процессами формирования упорядоченных структур различной физической природы. Книга ориентирована на научно-технических работников в области физики газового разряда и импульсной электрофизики, а также студентов и аспирантов соответствующих специальностей.
6.
Подробнее
Трубицын, А. А.
Моделирование систем параксиальной электронной оптики : учебное пособие / Трубицын А. А. - Рязань : Рязанский государственный радиотехнический университет, 2022. - 80 с. - Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.3
Кл.слова (ненормированные):
моделирование -- уравнение буша -- уравнение гельмгольца-лагранжа -- фокусировка -- электронная оптика -- электростатическое поле
Аннотация: Содержит теоретические сведения об основных законах электронной оптики, подробно рассматриваются условия пространственной и угловой фокусировок, распределение потенциала аксиально-симметричного электростатического поля, уравнение Буша, формулы углового и линейного увеличения, уравнение Гельмгольца-Лагранжа. Также приводится методика расчета кардинальных элементов электростатических линз. К пособию прилагаются четыре практических задания по моделированию систем параксиальной электронной оптики в среде MathCAD. Предназначено для студентов технических вузов, обладающих начальными сведениями из физики и высшей математики.
Доп.точки доступа:
Кочергин, Э. Г.
Трубицын, А. А.
Моделирование систем параксиальной электронной оптики : учебное пособие / Трубицын А. А. - Рязань : Рязанский государственный радиотехнический университет, 2022. - 80 с. - Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
моделирование -- уравнение буша -- уравнение гельмгольца-лагранжа -- фокусировка -- электронная оптика -- электростатическое поле
Аннотация: Содержит теоретические сведения об основных законах электронной оптики, подробно рассматриваются условия пространственной и угловой фокусировок, распределение потенциала аксиально-симметричного электростатического поля, уравнение Буша, формулы углового и линейного увеличения, уравнение Гельмгольца-Лагранжа. Также приводится методика расчета кардинальных элементов электростатических линз. К пособию прилагаются четыре практических задания по моделированию систем параксиальной электронной оптики в среде MathCAD. Предназначено для студентов технических вузов, обладающих начальными сведениями из физики и высшей математики.
Доп.точки доступа:
Кочергин, Э. Г.
Page 1, Results: 6