Choice of metadata IPR SMART
Page 1, Results: 8
Report on unfulfilled requests: 0
1.
Подробнее
Гармашов, С. И.
Методы исследования процессов кристаллизации : учебное пособие / Гармашов С. И. - Ростов-на-Дону, Таганрог : Издательство Южного федерального университета, 2019. - 89 с. - ISBN 978-5-9275-3217-9 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.3
Кл.слова (ненормированные):
кристаллизация -- межфазная энергия -- поверхностная энергия -- термомиграция -- тонкая пленка -- физика
Аннотация: Содержит систематическое изложение материала по изучению физики процессов кристаллизации, который может быть использован при преподавании дисциплины «Экспериментальные методы исследования» для студентов направления 16.03.01 – Техническая физика, а также при выполнении ими научно-исследовательской работы. В пособии рассмотрены теоретические основы зарождения твердой (кристаллической) фазы, на базе которых детально изложены механизм и особенности реализации некоторых методов кристаллизации веществ – в частности, метода термомиграции жидких включений в кристалле под действием градиента температуры и метода квазизамкнутого объема для получения тонких пленок разлагающихся соединений. В пособие включены вопросы и задачи для контроля освоения студентами изложенного материала. Рекомендуется для студентов и аспирантов технических направлений подготовки.
Гармашов, С. И.
Методы исследования процессов кристаллизации : учебное пособие / Гармашов С. И. - Ростов-на-Дону, Таганрог : Издательство Южного федерального университета, 2019. - 89 с. - ISBN 978-5-9275-3217-9 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
кристаллизация -- межфазная энергия -- поверхностная энергия -- термомиграция -- тонкая пленка -- физика
Аннотация: Содержит систематическое изложение материала по изучению физики процессов кристаллизации, который может быть использован при преподавании дисциплины «Экспериментальные методы исследования» для студентов направления 16.03.01 – Техническая физика, а также при выполнении ими научно-исследовательской работы. В пособии рассмотрены теоретические основы зарождения твердой (кристаллической) фазы, на базе которых детально изложены механизм и особенности реализации некоторых методов кристаллизации веществ – в частности, метода термомиграции жидких включений в кристалле под действием градиента температуры и метода квазизамкнутого объема для получения тонких пленок разлагающихся соединений. В пособие включены вопросы и задачи для контроля освоения студентами изложенного материала. Рекомендуется для студентов и аспирантов технических направлений подготовки.
2.
Подробнее
Иванов, Н. Б.
Нанотехнологии материалов и покрытий : учебное пособие / Иванов Н. Б. - Казань : Казанский национальный исследовательский технологический университет, 2019. - 236 с. - ISBN 978-5-7882-2538-8 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 30.3
Кл.слова (ненормированные):
нанодисперсная система -- нанокомпозит -- наноматериал -- нанопокрытие -- нанотехнология -- тонкая пленка -- ультрадисперсный порошок
Аннотация: Изложены основные методы получения наноматериалов, нанопокрытий и тонких пленок, области их применения в машиностроении, атомной энергетике, наноэлектронике. Исследования в области наноматериалов позволили реализовать высокий уровень физико-химических и механических свойств материалов в наносостоянии. Рекомендовано для студентов, обучающихся по специальностям «Материаловедение и технологии новых материалов» и «Химическая технология энергонасыщенных материалов и изделий», а также для слушателей групп повышения квалификации и переподготовки специалистов в области новых материалов и наносистем. Подготовлено на кафедре технологии твердых химических веществ.
Доп.точки доступа:
Покалюхин, Н. А.
Аношкиной, Д. С. \ред.\
Иванов, Н. Б.
Нанотехнологии материалов и покрытий : учебное пособие / Иванов Н. Б. - Казань : Казанский национальный исследовательский технологический университет, 2019. - 236 с. - ISBN 978-5-7882-2538-8 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
нанодисперсная система -- нанокомпозит -- наноматериал -- нанопокрытие -- нанотехнология -- тонкая пленка -- ультрадисперсный порошок
Аннотация: Изложены основные методы получения наноматериалов, нанопокрытий и тонких пленок, области их применения в машиностроении, атомной энергетике, наноэлектронике. Исследования в области наноматериалов позволили реализовать высокий уровень физико-химических и механических свойств материалов в наносостоянии. Рекомендовано для студентов, обучающихся по специальностям «Материаловедение и технологии новых материалов» и «Химическая технология энергонасыщенных материалов и изделий», а также для слушателей групп повышения квалификации и переподготовки специалистов в области новых материалов и наносистем. Подготовлено на кафедре технологии твердых химических веществ.
Доп.точки доступа:
Покалюхин, Н. А.
Аношкиной, Д. С. \ред.\
3.
Подробнее
Твердохлеб, П. Е.
Оптические свойства тонких диэлектрических пленок : учебное пособие / Твердохлеб П. Е. - Новосибирск : Новосибирский государственный технический университет, 2019. - 87 с. - ISBN 978-5-7782-3974-6 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.3
Кл.слова (ненормированные):
диэлектрическая пленка -- оптическое свойство -- световая волна -- тонкая пленка -- электромагнитная теория
Аннотация: Пособие посвящено изучению отражающих и пропускающих свойств тонких диэлектрических пленок с единых позиций волновой теории электромагнитного поля. Моделью пленки является трехслойная диэлектрическая структура: «подложка–пленка–защитный слой». Изложены физические основы работы такой структуры в режимах прохождения ТЕ- и ТМ-поляризованных световых волн, в том числе и с полным внутренним отражением на нижней границе раздела диэлектрических сред. Получены формулы для нахождения амплитудных и энергетических коэффициентов отражения и пропускания диэлектрических пленок. Исследованы зависимости таких коэффициентов от длины волны, углов наклона и состояния поляризации световых волн, а также от оптической толщины пленок. Включены вопросы, задачи и расчетно-графические задания, способствующие более глубокому пониманию физических процессов распространения и преобразования световых волн в тонких диэлектрических пленках и методов их компьютерного моделирования. Предназначено для магистров и бакалавров по направлениям 12.03.02 – Оптотехника, 12.03.03 – Фотоника и оптоинформатика, 12.04.02 – Оптотехника, а также для аспирантов по специальности 05.11.07 Оптические и оптико-электронные приборы и комплексы.
Доп.точки доступа:
Пономарева, М. А.
Твердохлеб, П. Е.
Оптические свойства тонких диэлектрических пленок : учебное пособие / Твердохлеб П. Е. - Новосибирск : Новосибирский государственный технический университет, 2019. - 87 с. - ISBN 978-5-7782-3974-6 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
диэлектрическая пленка -- оптическое свойство -- световая волна -- тонкая пленка -- электромагнитная теория
Аннотация: Пособие посвящено изучению отражающих и пропускающих свойств тонких диэлектрических пленок с единых позиций волновой теории электромагнитного поля. Моделью пленки является трехслойная диэлектрическая структура: «подложка–пленка–защитный слой». Изложены физические основы работы такой структуры в режимах прохождения ТЕ- и ТМ-поляризованных световых волн, в том числе и с полным внутренним отражением на нижней границе раздела диэлектрических сред. Получены формулы для нахождения амплитудных и энергетических коэффициентов отражения и пропускания диэлектрических пленок. Исследованы зависимости таких коэффициентов от длины волны, углов наклона и состояния поляризации световых волн, а также от оптической толщины пленок. Включены вопросы, задачи и расчетно-графические задания, способствующие более глубокому пониманию физических процессов распространения и преобразования световых волн в тонких диэлектрических пленках и методов их компьютерного моделирования. Предназначено для магистров и бакалавров по направлениям 12.03.02 – Оптотехника, 12.03.03 – Фотоника и оптоинформатика, 12.04.02 – Оптотехника, а также для аспирантов по специальности 05.11.07 Оптические и оптико-электронные приборы и комплексы.
Доп.точки доступа:
Пономарева, М. А.
4.
Подробнее
Васильев, В. Ю.
Технология тонких пленок для микро- и наноэлектроники : учебное пособие / Васильев В. Ю. - Новосибирск : Новосибирский государственный технический университет, 2019. - 107 с. - ISBN 978-5-7782-3915-9 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 32.85
Кл.слова (ненормированные):
газовая фаза -- микроэлектроника -- наноэлектроника -- неорганический материал -- тонкая пленка
Аннотация: Рассмотрены вопросы методологии и технологии создания тонких пленок (ТП) неорганических материалов осаждением из газовой фазы для использования в технологиях микро- и наноэлектроники. Пособие создано на основе исследовательской и публикационной активности автора в течение 40 лет; развиты и обобщены результаты исследований, начатых в 1970-х годах в Институте физики полупроводников Академии наук СССР и исследовательских отделах предприятий электронной промышленности г. Новосибирска. Рассмотрена совокупность вопросов, связанных с методологией и технологией получения высококачественных ТП для изделий микроэлектроники, показана возрастающая роль ТП технологий в технологических маршрутах изготовления изделий, рассмотрены тенденции развития, типы и характеристики оборудования для процессов производства ИМС, технологические процессы получения различных ТП материалов на основе кремния, свойства ТП материалов. Учебное пособие разработано в соответствии с рабочей программой учебной дисциплины «Семинары по специальности», образовательная программа: 11.04.04. «Электроника и наноэлектроника», магистерская программа «Микро- и наноэлектроника». Рекомендуется также для обучения бакалавров и магистрантов по направлениям 11.03.04 и 11.04.04 («Электроника и наноэлектроника»), 28.03.01 и 28.04.01 («Нанотехнологии и микросистемная техника») в рамках семинаров по специальностям и по дисциплинам, связанным с преподаванием физико-химических основ технологических процессов изделий микроэлектроники, микросистемной техники, наноэлектроники. Также рекомендуется для аспирантов по специальности 11.06.01 «Электроника, радиотехника и системы связи», представляет интерес для технологов производства ИМС, исследователей в области нанотехнологий.
Васильев, В. Ю.
Технология тонких пленок для микро- и наноэлектроники : учебное пособие / Васильев В. Ю. - Новосибирск : Новосибирский государственный технический университет, 2019. - 107 с. - ISBN 978-5-7782-3915-9 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
газовая фаза -- микроэлектроника -- наноэлектроника -- неорганический материал -- тонкая пленка
Аннотация: Рассмотрены вопросы методологии и технологии создания тонких пленок (ТП) неорганических материалов осаждением из газовой фазы для использования в технологиях микро- и наноэлектроники. Пособие создано на основе исследовательской и публикационной активности автора в течение 40 лет; развиты и обобщены результаты исследований, начатых в 1970-х годах в Институте физики полупроводников Академии наук СССР и исследовательских отделах предприятий электронной промышленности г. Новосибирска. Рассмотрена совокупность вопросов, связанных с методологией и технологией получения высококачественных ТП для изделий микроэлектроники, показана возрастающая роль ТП технологий в технологических маршрутах изготовления изделий, рассмотрены тенденции развития, типы и характеристики оборудования для процессов производства ИМС, технологические процессы получения различных ТП материалов на основе кремния, свойства ТП материалов. Учебное пособие разработано в соответствии с рабочей программой учебной дисциплины «Семинары по специальности», образовательная программа: 11.04.04. «Электроника и наноэлектроника», магистерская программа «Микро- и наноэлектроника». Рекомендуется также для обучения бакалавров и магистрантов по направлениям 11.03.04 и 11.04.04 («Электроника и наноэлектроника»), 28.03.01 и 28.04.01 («Нанотехнологии и микросистемная техника») в рамках семинаров по специальностям и по дисциплинам, связанным с преподаванием физико-химических основ технологических процессов изделий микроэлектроники, микросистемной техники, наноэлектроники. Также рекомендуется для аспирантов по специальности 11.06.01 «Электроника, радиотехника и системы связи», представляет интерес для технологов производства ИМС, исследователей в области нанотехнологий.
5.
Подробнее
Технология химического осаждения пленок халькогенидов металлов : учебное пособие / Маскаева Л. Н. - Екатеринбург : Издательство Уральского университета, 2018. - 136 с. - ISBN 978-5-7996-2411-8 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 24.1
Кл.слова (ненормированные):
водный раствор -- газовая фаза -- полупроводниковая пленка -- тонкая пленка -- халькогениды -- химическое осаждение
Аннотация: В учебном пособии изложены теоретический материал и алгоритмы выполнения курсовых работ, предлагаемых студентам по ряду профильных дисциплин, связанных с прогнозированием условий и проведением процесса осаждения полупроводниковых пленок на основе халькогенидов металлов и других сопутствующих фаз. Приведены необходимый для выполнения расчетов обширный справочный материал, рекомендации по содержанию и оформлению отчетов. Исходя из известных рабочих рецептур, подобраны различные варианты индивидуальных заданий по курсовым работам. Предназначено для студентов бакалавриата и магистрантов, обучающихся по программе «Химическая технология материалов электроники, сенсорной аналитики и неорганических веществ», будет полезно аспирантам различных специальностей и преподавателям вузов.
Доп.точки доступа:
Маскаева, Л. Н.
Марков, В. Ф.
Форостяная, Н. А.
Туленин, С. С.
Федорова, Е. А.
Смирнова, З. И.
Титов, А. Н.
Маскаевой, Л. Н. \ред.\
Технология химического осаждения пленок халькогенидов металлов : учебное пособие / Маскаева Л. Н. - Екатеринбург : Издательство Уральского университета, 2018. - 136 с. - ISBN 978-5-7996-2411-8 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
водный раствор -- газовая фаза -- полупроводниковая пленка -- тонкая пленка -- халькогениды -- химическое осаждение
Аннотация: В учебном пособии изложены теоретический материал и алгоритмы выполнения курсовых работ, предлагаемых студентам по ряду профильных дисциплин, связанных с прогнозированием условий и проведением процесса осаждения полупроводниковых пленок на основе халькогенидов металлов и других сопутствующих фаз. Приведены необходимый для выполнения расчетов обширный справочный материал, рекомендации по содержанию и оформлению отчетов. Исходя из известных рабочих рецептур, подобраны различные варианты индивидуальных заданий по курсовым работам. Предназначено для студентов бакалавриата и магистрантов, обучающихся по программе «Химическая технология материалов электроники, сенсорной аналитики и неорганических веществ», будет полезно аспирантам различных специальностей и преподавателям вузов.
Доп.точки доступа:
Маскаева, Л. Н.
Марков, В. Ф.
Форостяная, Н. А.
Туленин, С. С.
Федорова, Е. А.
Смирнова, З. И.
Титов, А. Н.
Маскаевой, Л. Н. \ред.\
6.
Подробнее
Энергетическая релаксация квазичастиц в сверхпроводниковых пленках нитрида титана и легированных бором пленках алмаза : монография / Кардакова А. И. - Москва : Московский педагогический государственный университет, 2017. - 114 с. - ISBN 978-5-4263-0569-4 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.2
Кл.слова (ненормированные):
алмазная пленка -- сверхпроводник -- титан -- тонкая пленка -- электрон -- энергетическая релаксация
Аннотация: Монография посвящена экспериментальному исследованию процессов энергетической релаксации неравновесного резистивного состояния в сверхпроводниковых пленках нитрида титана (TiN) и легированных бором пленках алмаза (C:B). Результаты экспериментального исследования дают новые сведения о характерных временах и механизмах энергетической релаксации в сверхпроводниковых пленках нитрида титана и легированных бором пленках алмаза. Данные сведения имеют важное значение при разработке и создании детекторов электромагнитного (ЭМ) излучения. Монография предназначена для студентов старших курсов, аспирантов и начинающих исследователей, работающих в области сверхпроводниковой наноэлектроники и радиофизики.
Доп.точки доступа:
Кардакова, А. И.
Рябчун, С. А.
Ан, П. П.
Гольцман, Г. Н.
Энергетическая релаксация квазичастиц в сверхпроводниковых пленках нитрида титана и легированных бором пленках алмаза : монография / Кардакова А. И. - Москва : Московский педагогический государственный университет, 2017. - 114 с. - ISBN 978-5-4263-0569-4 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
алмазная пленка -- сверхпроводник -- титан -- тонкая пленка -- электрон -- энергетическая релаксация
Аннотация: Монография посвящена экспериментальному исследованию процессов энергетической релаксации неравновесного резистивного состояния в сверхпроводниковых пленках нитрида титана (TiN) и легированных бором пленках алмаза (C:B). Результаты экспериментального исследования дают новые сведения о характерных временах и механизмах энергетической релаксации в сверхпроводниковых пленках нитрида титана и легированных бором пленках алмаза. Данные сведения имеют важное значение при разработке и создании детекторов электромагнитного (ЭМ) излучения. Монография предназначена для студентов старших курсов, аспирантов и начинающих исследователей, работающих в области сверхпроводниковой наноэлектроники и радиофизики.
Доп.точки доступа:
Кардакова, А. И.
Рябчун, С. А.
Ан, П. П.
Гольцман, Г. Н.
7.
Подробнее
Берлин, Б. В.
Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением / Берлин Б. В. - Москва : Техносфера, 2014. - 256 с. - ISBN 978-5-94836-369-1 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 34.65
Кл.слова (ненормированные):
магнетронное распыление -- нанесение покрытия -- реактивное распыление -- тонкая пленка
Аннотация: Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография. Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок. Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Доп.точки доступа:
Сейдман, Л. А.
Берлин, Б. В.
Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением / Берлин Б. В. - Москва : Техносфера, 2014. - 256 с. - ISBN 978-5-94836-369-1 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
магнетронное распыление -- нанесение покрытия -- реактивное распыление -- тонкая пленка
Аннотация: Книга представляет собой подробное справочное руководство по физическим основам, технологическим особенностям и практическому применению процесса реактивного магнетронного нанесения тонких пленок сложного состава, представляющих собой химические соединения металлов или полупроводников с азотом, кислородом или углеродом. Этот процесс уже широко распространен в электронной промышленности и в других отраслях, где используется нанесение покрытий. В книге обобщено современное состояние этого процесса, приведена обширная библиография. Представлено подробное описание физических процессов, протекающих во время реактивного магнетронного нанесения, и следующих из них технологических особенностей магнетронного нанесения. Особое внимание уделено способам управления процессами реактивного магнетронного нанесения тонких плёнок, обеспечивающих стабильность и воспроизводимость как самого процесса нанесения, так и свойств получаемых пленок. Описаны изменения состава и структуры получаемых пленок и их зависимость от параметров процесса нанесения. Приведена широкая номенклатура получаемых этим способом пленок сложного состава. Рассмотрены модификации этого процесса, различающиеся используемыми источниками питания: постоянного тока, среднечастотных импульсов, импульсов большой мощности и ВЧ. Даны практические рекомендации по освоению известных и разработке новых процессов получения пленок сложного состава методом реактивного магнетронного распыления. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Доп.точки доступа:
Сейдман, Л. А.
8.
Подробнее
Смирнов, В. И.
Технология интегральных микросхем : учебное пособие / Смирнов В. И. - Москва, Вологда : Инфра-Инженерия, 2023. - 244 с. - ISBN 978-5-9729-1232-2 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 32.965
Кл.слова (ненормированные):
интегральная микросхема -- пластина -- полупроводник -- слиток -- тонкая пленка
Аннотация: Изложены вопросы технологии производства интегральных микросхем. Основное внимание уделено вопросам формирования структуры полупроводниковых микросхем. Рассмотрена технология получения тонких пленок в гибридных интегральных схемах. Для студентов, обучающихся по направлению подготовки 11.03.03 «Конструирование и технология электронных средств», профиль «Конструирование и технология электронных средств».
Смирнов, В. И.
Технология интегральных микросхем : учебное пособие / Смирнов В. И. - Москва, Вологда : Инфра-Инженерия, 2023. - 244 с. - ISBN 978-5-9729-1232-2 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
интегральная микросхема -- пластина -- полупроводник -- слиток -- тонкая пленка
Аннотация: Изложены вопросы технологии производства интегральных микросхем. Основное внимание уделено вопросам формирования структуры полупроводниковых микросхем. Рассмотрена технология получения тонких пленок в гибридных интегральных схемах. Для студентов, обучающихся по направлению подготовки 11.03.03 «Конструирование и технология электронных средств», профиль «Конструирование и технология электронных средств».
Page 1, Results: 8