Choice of metadata IPR SMART
Page 1, Results: 3
Report on unfulfilled requests: 0
1.
Подробнее
Берлин, Е. В.
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения : учебное пособие / Берлин Е. В. - Москва : Техносфера, 2018. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-519-0 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.333
Кл.слова (ненормированные):
высокоплотная плазма -- индуктивные источники -- ионный ток -- плотность плазмы -- электрод
Аннотация: Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10¹¹-10¹² см‾³), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10‾²2÷10‾¹ Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого — систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Доп.точки доступа:
Григорьев, В. Ю.
Сейдман, Л. А.
Берлин, Е. В.
Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения : учебное пособие / Берлин Е. В. - Москва : Техносфера, 2018. - 464 с. - ISBN 978-5-94836-519-0 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
высокоплотная плазма -- индуктивные источники -- ионный ток -- плотность плазмы -- электрод
Аннотация: Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10¹¹-10¹² см‾³), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10‾²2÷10‾¹ Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого — систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.
Доп.точки доступа:
Григорьев, В. Ю.
Сейдман, Л. А.
2.
Подробнее
Тренькин, А. А.
Микроструктура импульсных разрядов в воздухе : монография / Тренькин А. А. - Саров : Российский федеральный ядерный центр – ВНИИЭФ, 2022. - 235 с. - ISBN 978-5-9515-0518-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.333
Кл.слова (ненормированные):
высоковольтный разряд -- газоразрядный процесс -- импульсный разряд -- физическая модель
Аннотация: Представлены результаты исследований высоковольтных разрядов наносекундного и микросекундного диапазонов длительности в воздухе атмосферного давления: бесстримерного, искрового, диффузного и барьерного. Основное внимание сосредоточено на изучении пространственной структуры разных типов разрядов, при этом связующей нитью является наличие микроструктуры, когда разряд реализуется в виде совокупности большого количества каналов (филаментов) микронного диаметра. Вместе с тем, взаимоувязанным в рассмотрении оказывается широкий круг газоразрядных процессов, включающих плазменные, газодинамические, радиационные. Изложены экспериментальные данные и описаны физические модели, позволяющие объяснить основные наблюдаемые явления. Проведены аналогии с процессами формирования упорядоченных структур различной физической природы. Книга ориентирована на научно-технических работников в области физики газового разряда и импульсной электрофизики, а также студентов и аспирантов соответствующих специальностей.
Тренькин, А. А.
Микроструктура импульсных разрядов в воздухе : монография / Тренькин А. А. - Саров : Российский федеральный ядерный центр – ВНИИЭФ, 2022. - 235 с. - ISBN 978-5-9515-0518-7 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
высоковольтный разряд -- газоразрядный процесс -- импульсный разряд -- физическая модель
Аннотация: Представлены результаты исследований высоковольтных разрядов наносекундного и микросекундного диапазонов длительности в воздухе атмосферного давления: бесстримерного, искрового, диффузного и барьерного. Основное внимание сосредоточено на изучении пространственной структуры разных типов разрядов, при этом связующей нитью является наличие микроструктуры, когда разряд реализуется в виде совокупности большого количества каналов (филаментов) микронного диаметра. Вместе с тем, взаимоувязанным в рассмотрении оказывается широкий круг газоразрядных процессов, включающих плазменные, газодинамические, радиационные. Изложены экспериментальные данные и описаны физические модели, позволяющие объяснить основные наблюдаемые явления. Проведены аналогии с процессами формирования упорядоченных структур различной физической природы. Книга ориентирована на научно-технических работников в области физики газового разряда и импульсной электрофизики, а также студентов и аспирантов соответствующих специальностей.
3.
Подробнее
Каренгин, А. Г.
Физика и техника высокочастотной газоразрядной плазмы. Лабораторный практикум : учебное пособие / Каренгин А. Г. - Томск : Томский политехнический университет, 2022. - 87 с. - ISBN 978-5-4387-1105-6 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 22.333
Кл.слова (ненормированные):
воздушная плазма -- высокочастотная плазма -- газоразрядная плазма -- генератор -- факельный плазмотрон -- физика
Аннотация: В пособии представлены учебно-методические указания к проведению лабораторных работ, посвященных изучению устройства и правил эксплуатации высокочастотного генератора ВЧГ8–60/13, определению и оптимизации газодинамических и теплофизических параметров потоков воздушной плазмы, генерируемых высокочастотным факельным плазмотроном в составе плазменной установки. Предназначено для студентов, обучающихся по направлению 14.03.02 «Ядерные физика и технологии», профиль «Физика кинетических явлений».
Доп.точки доступа:
Новоселов, И. Ю.
Тихонов, А. Е.
Каренгин, А. Г.
Физика и техника высокочастотной газоразрядной плазмы. Лабораторный практикум : учебное пособие / Каренгин А. Г. - Томск : Томский политехнический университет, 2022. - 87 с. - ISBN 978-5-4387-1105-6 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
воздушная плазма -- высокочастотная плазма -- газоразрядная плазма -- генератор -- факельный плазмотрон -- физика
Аннотация: В пособии представлены учебно-методические указания к проведению лабораторных работ, посвященных изучению устройства и правил эксплуатации высокочастотного генератора ВЧГ8–60/13, определению и оптимизации газодинамических и теплофизических параметров потоков воздушной плазмы, генерируемых высокочастотным факельным плазмотроном в составе плазменной установки. Предназначено для студентов, обучающихся по направлению 14.03.02 «Ядерные физика и технологии», профиль «Физика кинетических явлений».
Доп.точки доступа:
Новоселов, И. Ю.
Тихонов, А. Е.
Page 1, Results: 3