База данных: IPR SMART кітаптар
Беті 1, Нәтижелерін: 1
Отмеченные записи: 0
1.
Подробнее
Липатов, Г. И.
Расчеты процессов очистки и получения пленок и слоев методами физического и химического осаждения : учебное пособие / Липатов Г. И. - Москва : Ай Пи Ар Медиа, 2021. - 84 с. - ISBN 978-5-4497-1207-3 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
ББК 32.841
Кл.слова (ненормированные):
наноэлектроника -- парогазовая фаза -- получение пленки -- физико-химия -- физическое осаждение -- химическое осаждение
Аннотация: В учебном пособии рассмотрены физико-химические основы получения пленок и слоев методами физического и химического осаждения из парогазовой фазы, а также методы очистки исходных материалов, применяемых в производстве изделий микро- и наноэлектроники, для расчетов процессов очистки и получения пленок и слоев с использованием рассмотренных методов. Помимо теоретического материала издание содержит также лабораторные работы, которые включают расчет скорости осаждения пленок из парогазовой фазы в различных режимах протекания процесса и изменения состава пленок по толщине при вакуум-термическом напылении, исследование процесса эпитаксиального осаждения кремния, изучение процесса непрерывной ректификации. Учебное пособие предназначено для студентов, обучающихся по направлению подготовки 28.03.02 «Наноинженерия» (профиль «Инженерные нанотехнологии в приборостроении»), изучающих дисциплину «Физико-химические основы нанотехнологии».
Липатов, Г. И.
Расчеты процессов очистки и получения пленок и слоев методами физического и химического осаждения : учебное пособие / Липатов Г. И. - Москва : Ай Пи Ар Медиа, 2021. - 84 с. - ISBN 978-5-4497-1207-3 : Б. ц.
Книга находится в Премиум-версии IPR SMART.
| УДК |
Кл.слова (ненормированные):
наноэлектроника -- парогазовая фаза -- получение пленки -- физико-химия -- физическое осаждение -- химическое осаждение
Аннотация: В учебном пособии рассмотрены физико-химические основы получения пленок и слоев методами физического и химического осаждения из парогазовой фазы, а также методы очистки исходных материалов, применяемых в производстве изделий микро- и наноэлектроники, для расчетов процессов очистки и получения пленок и слоев с использованием рассмотренных методов. Помимо теоретического материала издание содержит также лабораторные работы, которые включают расчет скорости осаждения пленок из парогазовой фазы в различных режимах протекания процесса и изменения состава пленок по толщине при вакуум-термическом напылении, исследование процесса эпитаксиального осаждения кремния, изучение процесса непрерывной ректификации. Учебное пособие предназначено для студентов, обучающихся по направлению подготовки 28.03.02 «Наноинженерия» (профиль «Инженерные нанотехнологии в приборостроении»), изучающих дисциплину «Физико-химические основы нанотехнологии».
Беті 1, Нәтижелерін: 1